公司将在半导体光刻技术盛会上发表论文
日本小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市，董事总经理兼首席执行官：Katsumi Uranaka）将参加于太平洋标准时间2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会。
Gigaphoton将介绍助力提高产能的前沿技术，以及基于DUV光源技术可持续性解决方案。此外，Gigaphoton还将介绍EUV光源的研发进展。
* 如果您希望在您的材料中引用这些论文，请联系我们。
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口头演讲： |
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1) 通过领先的浸入式光源同时改善边缘放置误差(EPE)和可用性 [论文编号：12494-44] |
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2) 面向半导体制造的等离子体动力学和LPP-EUV光源的前景 [论文编号： 12494-45] |
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